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薄膜を作製する装置です．本装置は，本装置は，3つの4inchターゲットを備えていおり，熱磁気記録薄膜や巨大磁気抵抗効果を示す多層膜などを成膜しています．少し仕様のことなる2台の装置があります．
装置仕様
[No.1]
島津製作所製
100mmφターゲット3台，高周波電源2台
到達真空度：3×10-5 Pa
逆スパッタ機構，基板水冷機構，基板回転による多層膜作製機能[No.2]
島津製作所製
100mmφターゲット3台，高周波電源2台
到達真空度：3×10-5 Pa
逆スパッタ機構，基板水冷機構，基板自公転による磁気，光磁気ディスク作製機能
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