マイクロ磁性デバイスを作製するための露光装置です．微細な電子線を用いてレジストを露光します．
装置仕様
JEOL製 JBX-6300FS 加速電圧：50 kV / 100 kV エミッタ：ZrO/W ビーム径：2 ~ 10 nm 最大加工寸法：4 inch wafer，4 inch mask
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