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薄膜を作製する装置です．本装置は，本装置は，4つの3inchターゲットと1つの2inchターゲットを備えていますから，4種類以上の層から構成される複雑な多層膜でも一度に作製することができます．
装置仕様
研究室の自作
到達真空度：1×10-7 Pa
3インチターゲット4台 2インチターゲット1台
高周波電源 3台 直流電源 2台
基板の逆スパッタおよび基板バイアス機構
基板水冷機構
基板回転およびシャッターの開閉制御による多層膜作製機能
基板ロードロック機構およびFIB室への超高真空中基板搬送機構
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