Nd:YAGレーザー用高真空チャンバー外観。
パターンプレートの駆動系。
ターゲット回転機構、基板・Si-Nヒーター部から成る成膜室と、 ターボ分子ポンプとロータリーポンプから成る排気系で構成されている。
Si-Nヒーターは最高1050oCまで加熱可能で、ヒーター上に基板を 機械的に固定し、薄膜の作製を行っている。
また、各種ガスを導入することで薄膜成長雰囲気を変えることもできる。
最大で6種類のターゲットを設置可能で、ターゲットの切り替え、 パターンプレートの駆動そしてレーザーパルス数をPC制御によって 連動させることで、ナノメートルレベルで構造制御した機能性薄膜や 一枚の基板上に組成を変調させた薄膜を作製可能である。
これによって、新規材料探索や機能性の向上などに関する研究の 高速化を行っている。
スペック
・設置可能ターゲット数： 6個。
（PC制御で切替。）
・到達真空度： 10-6 Torr以下
・ヒーター： Si-Nヒーター
・ヒーター最高温度：1,050oC
・その他： パターンプレート駆動機構
（PC制御でターゲット切替、Nd:YAGレーザーと連動。）