実験設備

当研究室では、以下の装置を用いて、酸化物超伝導体をはじめとした
機能性薄膜を作製し、その電気的磁気的性質を評価しています。

薄膜作製装置

機能性薄膜は主にパルスレーザー蒸着法(Pulsed Laser Deposition: PLD法)を用いて作製しています。

【高エネルギーレーザー発振装置】
・ KrFエキシマレーザー (COMPex201, Lambda Physik社)
・ KrFエキシマレーザー (COMPex PRO102F, Lambda Physik社)
・ Nd:YAGレーザー (LS-2147, LOTIS TII社)
・ Nd:YAGレーザー (LS-2137-BBO, LOTIS TII社)

【薄膜成長用真空チャンバー】
・ 4ターゲット高真空チャンバー
・多条件高真空チャンバー
・ Nd:YAGレーザー用高真空チャンバー
・ 3ターゲット小型チャンバー
・ Fe系超伝導体用3ターゲット小型チャンバー
・超伝導線材作製用Reel to Reelチャンバー(YAGレーザー用)
・超伝導線材作製用Reel to Reelチャンバー(エキシマレーザー用)

薄膜評価装置

作製した薄膜の様々な性質を以下の装置を用いて明らかにしています。

・エピタキシャル薄膜用X線評価装置 (ATX-G, リガク社)
・原子間力顕微鏡 (SPI3800Ne, SIIナノテクノロジー社)
・走査型電子顕微鏡 (S-3400N, 日立ハイテクノロジーズ社)
・物理特性測定装置 (PPMS MODEL6000, カンタムデザイン社)
・ ICP-AES発光分光分析装置 (iCAP6200DUO, サーモサイエンティフィック社)
・高分解能走査プローブ顕微鏡 (SOLVER NEXT^TM (SLVN_NUS1), NT-MDT社)
・超高分解能非接触三次元表面形状測定システム (BW-A501, ニコン社)

原料焼結体作製装置、薄膜熱処理装置

PLD法で薄膜を作製する原料として、様々な機能性物質の
焼結体を作製しています。
また、作製した機能性薄膜の熱処理などにも利用します。

・小型ボックス炉 (KBF314N, 光洋サーモシステム社)
・マッフル炉 (ETR-11K, いすず製作所)
・管状電気炉 (KTF035N, 光洋サーモシステム社)
・卓上小型電気炉 (NHK-170, 日陶科学株式会社)