KrFエキシマレーザー発振装置外観。
KrFエキシマレーザーの発生原理は以下の通りである。
KrとF2の混合ガス中で放電することで、F2が 分解・励起され、Krと結合することで不安定なKrFエキシマが形成される。 あるエキシマが分解して基底状態に落ちるときに放出される光(波長248 nm) によって他のエキシマで誘導放出が発生し、さらに共振器で増幅されることで 高エネルギーのレーザー光が出力される。
COMPex201とほぼ同等の性能であるが、多条件高真空チャンバー との連動によって、複数の材料を複合化させた多層薄膜やナノレベルでの構造制御が 可能である。
スペック
・励起ガス： KrF
・波長： 248 nm
・最大出力： 450 mJ/pulse
・最大繰り返し周波数： 20 Hz
・レーザーパルス幅： 数十 nsec