Plasma Electronics

低温プラズマ × 計測 × 材料プロセス

低温プラズマの生成・計測・材料応用を通じ、半導体および機能材料分野に貢献する研究を行っています。

概要

プラズマの生成制御から計測・解析、スパッタ成膜・電極材料研究までを横断し、プロセスと材料の両面からプラズマエレクトロニクスの基盤技術を探究します。

放電・電極・装置条件の設計と最適化を通じ、プロセスに適したプラズマ制御を追究します。

画像計測・診断、モデリング、逆解析により、プラズマの時空間構造と粒子挙動を理解します。

PVD成膜、電極材料・界面に関する研究を通じ、機能材料創製とプロセス高度化を目指します。

半導体プロセス、機能材料・エネルギーデバイス材料などへの展開を進めています。

材料

PVD（スパッタ成膜）によるナノ構造膜の形成・制御と応用

機能性ナノ材料・エネルギーデバイス材料への応用展開。

計測

画像を用いたプラズマの3次元空間構造解析

多視点画像計測と再構成により、空間分布や変動を可視化・解析。

半導体

高アスペクト比構造内の粒子輸送・帯電現象

高エネルギー粒子の角度広がり、チャージアップ挙動の理解と制御。

※図・代表論文・装置写真は順次追加します。

教授　内田儀一郎

Professor / Sputtering (PVD), Electrode Materials, Plasma Processes

Email: uchida.giichiro.v2

Tel: 052-789-3150

准教授　鈴木陽香

Associate Professor / Plasma Diagnostics, Modeling, Inverse Problems

Email: suzuki.haruka.c3

f.mail.nagoya-u.ac.jp
Tel: 052-789-2726

2026-04-01　Webサイトを仮開設しました。

詳細ページ（研究・メンバー・業績等）は準備中です。

〒464-8603
名古屋市千種区不老町 IB電子情報館北棟棟2階東側
名古屋大学大学院工学研究科電子工学専攻

Email：suzuki.haruka.c3f.mail.nagoya-u.ac.jp
Tel　：052-789-2726
共同研究・見学のご相談を受け付けています。