会議・研究会等のお知らせ

応用物理学会　薄膜・表面物理分科会・シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会
「ゲートスタック研究会　―材料・プロセス・評価の物理―」（第１６回研究会）
会期：2011年1月21-23日
場所：東京工業大学


• 2011 International Workshop on　DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY (IWDTF 2011)
  Tokyo Institute of Technology, Tokyo, January 20 - 21, 2011



• 2011 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2011)
  Aichi Industry & Labor center, Nagoya, September 28 - 30, 2011



• 7th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-7)
  Tohoku University, Sendai, May 22 - 26, 2011



• 33rd International Symposium on Dry Process (DPS 2011)



• 3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2011)
  Nagoya Institute of Technology, Nagoya, March 6 - 9, 2011



• The 4th International Conference on Plasma-Nanotechnology & Science (IC-PLANTS 2011)
  Takayama Public Cultural Hall, Gifu, March 11 - 12, 2011



• 24th International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors (ICANS 24)
  Nara Prefectual New Public Hall, Nara, August 21 - 26, 2011



• 2011 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2011)



• The 2009 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai (2011 IMFEDK)
  Kansai University Centenary Memorial Hal, Osaka, May 19 - 20, 2011







• シリコン材料・デバイス(SDM)研究会



• 日本学術振興会 産学協力委員会



• 半導体界面制御技術第１５４委員会



• 薄膜第１３１委員会



• アモルファス・ナノ材料第１４７委員会