岩田研究室では,さまざまな磁性薄膜を作製し,その諸特性を測定するための以下の装置群を整備しています.装置は,工学研究科電子工学専攻の綱島研究室と共同で利用しています.


薄膜を作製するためのものとしては,真空蒸着装置,スパッタリング装置および分子線エピタキシャル装置があります.

1. 分子線エピタキシャルおよび表面分析装置
2. 超高真空5元マグネトロンスパッタリング装置
3. 3元マグネトロンスパッタリング装置・No.1
4. 3元マグネトロンスパッタリング装置・No.2
5. 8元マグネトロンスパッタリング装置


微細加工・エッチング・熱処理装置を用いて機能性磁性薄膜を設計・作製しています.

1. ECRプラズマエッチング装置
2. マスクアライナー
3. 磁界中熱処理装置


評価・分析装置としては,X線による構造解析を行う装置,磁気的な特性を測る装置などを備えています.

1. X線回折装置(2kW型)
2. 振動試料型磁力計
3. 交流磁界勾配型磁力計
4. トルク磁力計
5. 磁気光学スペクトル測定装置
6. 磁気抵抗効果測定装置
7. 分光光度計
8. 磁区観察用偏光顕微鏡


この他,先端技術共同研究施設の共同利用設備である以下の装置も利用しています.

1. 8元マグネトロンスパッタリング装置
2. 8元分子線エピタキシャル装置
3. ECRプラズマエッチング・SIMSモニタリング装置
4. X線回折装置(18 kW型)
5. 原子間力顕微鏡(大気中)
6. 電子線描画装置(JEOL JBX-6000FS)
7. 走査型電子顕微鏡(JEOL JSM-6301F)(EDS付き)